Rancang Bangun Generator Plasma dengan Media Gas Argon

David Suban Koten, Wijono Wijono, Rini Nur Hasanah

Abstract


Suatu substansi yang elektron-elektronnya keluar dari orbit tiap atom disebut dengan plasma. Plasma merupakan gas yang terion, dan dapat dibuat dengan cara memanaskan gas atau dengan cara memaparkan medan elektromagnetik yang cukup kuat menggunakan laser atau pembangkit gelombang mikro. Masalah utama dalam pembuatan reaktor plasma adalah bagaimana merancang sistem reaktor plasma yang mempunyai tekanan yang rendah (vacuum) dan menghasilkan debit plasma yang tinggi.

CCP (capacitively coupled plasma) merupakan metode yang umum digunakan dalam pembangkitan plasma pada dunia industri. Metode CCP adalah metode yang menggunakan dua elektroda logam yang terpisah dalam jarak yang cukup dekat dan ditempatkan di dalam sebuah reaktor. Tekanan gas dalam reaktor tersebut bisa sama atau lebih rendah dari tekanan atmosfer.

Dalam penelitian ini diulas bagaimana merancang generator plasma tegangan tinggi, sehingga dapat memasok tegangan arus searah (DC) untuk membangkitkan plasma di dalam ruangan reaktor yang berisi gas argon tekanan rendah. Selain itu pada penelitian ini juga dilakukan analisa tegangan breakdown sampai ditemukan rajahan hubungan antara tegangan breakdown dengan tekanan gas dan jarak antar elektroda. Diharapkan rajahan tersebut bisa disesuaikan dengan kurva sesuai dengan Hukum Paschen dan mendapatkan hasil yang mendekati kurva ideal.

References


Kind, D. 1993. Pengantar Teknik Ekspremental Tegangan Tinggi. Bandung: ITB.

Shimizu, K., Kinoshita, K., Yanagihara, K., Rajanikanth, B.S., Katsura, S., and Mizuno A. 1997. Pulsed-Plasma Treathment of Polluted Gas Using Wet/Low-Temperature Corona Reactors. IEEE Transaction on Industry Applications. Vol 33.

Francis, F.C. 1974. Introduction to Plasma Physics. Plenum Press. New York.

Czapka, Tomasz. 2011. Back-Corona Discharge Phenomenon in the Nonthermal Plasma System. IEEE Transactions on Plasma Science. New York.

Nur, Muhammad. 2011. Fisika Plasma dan Aplikasinya. Universitas Diponegoro. Semarang.

Chen, J. dan Davidson, J.H. 2002. Electron Density and Energy Distributions in the Positive DC Corona: Interpretation for Corona-Enhanced Chemical Reactions. Plasma Chemistry and Plasma Processing. Vol. 22.

Iskander, M.F. 1992. Electromagnetic Fields and Waves. New Jersey: Prentice Hall Inc.

Trujillo, Sánchez, Brian, Ángel, Méndez, Martínez, Rigoberto, Rodríguez, Portillo, and Otniel. 2016. Prototype of a Plasma Generator for Electrosurgery. 13th International Conference on Power Electronics. Toluca, Mexico.

Teske, Christian James, and Jacoby, Joachim. 2008. Pulsed Low Frequency Inductively Coupled Plasma Generator and Applications. IEEE Transactions on Plasma Science. New York.

M.S., Naidu. 1995. High Voltage Enggineering. Second Edition. New York: McGraw-Hill Inc.

Kim, H.H. Prieto, G., Takashima, K., Katsura, S., Mizuno, A. 2002. Performance Evaluation of Discharge Plasma for Gaseous Pollutant Removal. Journal of Electrostatic Elsevier Vol. 55.

E., Kuffel, W.S., Saengl, J., Kuffel. 2000. High Voltage Enggineering Fundamental. Published by Butterworth-Heinemann. Typeset by Laser Words, Madras, India.


Refbacks

  • There are currently no refbacks.


Copyright (c) 2017 Jurnal EECCIS